随着光刻技术的不断发展，光学光刻已从传统的G线、I线到，发展到远紫外，197nm以及157nm，设备的占用成本越来越高，stepper，而随着集成电路设计尺寸的继续缩小，更为严格的套刻指标和巨额的设备成本，混合匹配使用将成为一种必然的需要。各种混合匹配，以及光学光刻之后下一代光刻系统的混合匹配是需要不断研究的新课题。
光刻机
光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，stepper器材，曝光系统，stepper 光刻机，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动