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分类光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动A手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，常州半导体前道设备，对准精度可想而知不高了

光刻机 

光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，半导体前道设备，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

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