等离子体主要用于以下方面。
等离子体冶炼：用于冶炼用普通方法难于冶炼的材料，例如高熔点的锆(Zr)、钛(Ti)、钽(Ta)、铌(Nb)、钒(V)、钨(W)等金属；还用于简化工艺过程，例如直接从ZrCl、MoS、TaO和TiCl中分别等离子体，ITO清洗，
获得Zr、Mo、Ta和Ti；用等离子体熔化快速固化法可开发硬的高熔点粉末，如碳化钨-钴、Mo-Co、Mo-Ti-Zr-C等粉末等离子体冶炼的优点是产品成分及微结构的一致性好，塑料基板清洗，可免除容器材料的污染。
等离子体的不稳定性（无论宏观、微观）也可按引起它的驱动能量分类。如磁能引起的电流不稳定性；等离子体向弱磁场区膨胀时膨胀能引起的交换不稳定性；密度、温度梯度产生的等离子体膨胀能引起的漂移不稳定性；非麦克斯韦分布或压强各向异性对应的自由能引起的速度空间不稳定性等。
等离子体
等离子体中种类多样的不稳定性会导致带电粒子的逃逸或输运系数的异常增大，破坏等离子体的约束或限制约束时间。因此，FOG端子清洗，研究等离子体的各种不稳定性，阐明其物理机制，探索稳定化的方法，一直是受控热核聚变研究的一个中心课题，也是等离子体物理学的重要内容。
一种低温等离子体清洗设备，该设备低温等离子体发生装置、履带输送机构、自动上料、下料机构以及受控驱动电机设置在密封反应仓内，该反应仓两端的进出物料口处各设置一个风门阻隔装置，履带输送机构履带呈水平设置，自动上料机构和自动下料机构分置履带两端并靠近反应仓进出物料口处，低温等离子体发生装置设置于履带上方，数种气源经多气体比例混合供给装置和管道进入低温等离子体发生装置的辉光放电腔体内。
所述等离子体清洗设备包括多个等离子体发生筒；所述等离子体发生筒的一端为进气口，另一端为出气口，清洗，每个所述等离子体发生筒将位于其内部的气体激发为等离子体；所述多个等离子体发生筒阵列设置；且所述多个等离子体发生筒下端的开孔交错设置。上述等离子体清洗设备输入到玻璃基板表面的等离子体可以均匀地将玻璃基板覆盖，减少未被等离子体覆盖的死角，从而可以保证对玻璃基板的清洗效果。
