清洗机设备
触摸屏玻璃清洗机其实能够算得上是一个小清洗机器人，但是也没有说有你们说的那么的复杂，其实他就是一个全自动的清洗机器。这边做一个简短的介绍。
触摸屏玻璃清洗机全过程为机械全自动。(采用单梁多臂的机械手) 清洗特点：
1清洗光学玻璃时，不会因保管中所出的现象朦胧不清楚
2清洗光学玻璃时，不会发生潜伤，
3 超声波清洗定时控制
4 对材料没有不良影响电脑控制触摸屏操作全过程。大大降低劳动强度。
触摸屏玻璃清洗机全过程为机械全自动。(采用单梁多臂的机械手)。全自动超波触摸屏玻璃清洗机主要由触摸屏玻璃清洗机和超声波发生器两部分构成。触摸屏玻璃清洗机用坚固弹性好、耐腐蚀的优质不锈钢制成，底部安装有超声波换能器振子；超声波发生器产生高频高压，硅片清洗机价格，通过电缆联结线传导给换能器，清洗，换能器与振动板一起产生高频共振，从而使清洗槽中的溶剂受超声波作用对污垢进行洗净。
与此同时，专业化，RCA清洗机，规模化的洗涤公司遍及大街小巷．大大小小的专业家庭清洁．保洁公司大量出现，民用清洗领域呈现商业化。专业化运作的局面． 随着我国国民经济的持续高速发展．人们对日常生活质量提出了更高的要求，从远古以来．人类就了解和掌握了一些与自身有关的清洗知识．在古代，人们除了用清水去除沾附在身体和衣物上的泥沙之外，还知道用草木灰去除衣物上的油性污垢．纯碱和肥皂是人类至今仍然在大量使用的历史最为悠久和普遍的清洗用品．
目前在 半导体清洗机湿式清洗制程中，主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项，晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学药品与清洗设备，清除来自周遭环境所附着在晶圆表面的脏污，以达到半导体组件电气特性的要求与可靠度。至于脏污的来源，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师人体自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生，半导体清洗台，以及制程反应产生物的结果，尤其是制程反应产生物一项，更成为制程污染主要来源，因此如何改善制程中所产生污染，便成为清洗制程中研究主要的课题。
过去 RCA 多槽湿式清洗一直是晶圆清洗的主要技术，不过随着近年来制程与清洗设备的演进，不但在清洗制程中不断产生新的技术，也随着半导体后段封装技术的演进，清洗设备也逐渐进入封装厂的生产线中。以下本文即针对清洗设备与技术作一深入介绍，并分析清洗设备发展的关键机会及未来的发展趋势。
