等离子清洗/刻蚀技术是等离子体特殊性质的具体应用：
主要技术参数：
广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。其设备生产零件均选用其零件行业的最‘优质产品，以保证性能技术稳定。等离子表面处理设备特点：等离子清洗机清洗效果好，效率高，COG端子清洗，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求 等离子清洗过程中，白城清洗，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。
等离子体所科研人员参2016年全国高电压与放电等离子体会议
2016年全国高电压与放电等离子体会议于11月25日-27日在北京召开，交流和分享近两年高压放电技术、脉冲功率技术、等离子体及应用领域的最’新进展，业内400余名专家学者参加会议。
等离子体所凌必利研究员、赵鹏副研究员、程诚副研究员、沈洁副研究员等人参加了此次会议。十一室在读博士生郭起家发表了题为“感应耦合热等离子体气体组分变化对碳化硼涂层制备的影响”的口头报告，介绍了感应耦合等离子体炬制备碳化硼涂层的研究进展；六室在读博士生周秋娇发表了题为“Ar/H2感应耦合等离子体炬制备B4C涂层中的过程研究”的墙报，塑料基板清洗，并与国内相关领域的专家学者展开广泛交流和深入讨论。PST编辑部许平也参加了此次会议，向大会推介了等离子体所《PlasmaScience and Technology》（PST，《等离子体科学和技术》）期刊近年良好的发展态势。
