主要用途
1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有性，三氟化氮，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料
1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，三氟化氮阀门，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，三氟化氮出口，NF3与有机化合物反应常伴有性，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料
分子结构
相对密度(气体，空气=1，20℃，101.325kPa)：2.46
比容(21.1℃，101.325kPa)：0.3371m3/kg
气液容积比(15℃，100kPa)：520L/L
临界温度：-39.3℃
临界压力：4530kPa
临界密度：522kg/m3
临界压缩系数：0.317
熔化热(-206.79℃，101.325kPa)：5.61kJ/kg
气化热(-129℃，三氟化氮气体，101.325kPa)：163.29kJ/kg
比热容(气体，25℃，101.325kPa)：Cp=751.68J/(kg·K)
蒸气压(-171℃)：1.333kPa
(-100℃)：470kPa
(-60℃)：2200kPa
三氟化氮阀门,江苏科米克,三氟化氮由江苏科米克化工有限公司提供。江苏科米克化工有限公司（www.cmc-chemical.com）为客户提供“氢气，氦气，氧气，氮气，激光气”等业务，公司拥有“林德”等品牌。专注于化工产品等行业，在江苏 苏州 有较高知名度。欢迎来电垂询，联系人：于经理。