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      张家港晋宇达电子科技有限公司是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。      光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner) 又名:...


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产品详情

      张家港晋宇达电子科技有限公司是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。

      光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,尼康步进光刻机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,洛阳尼康步进光刻机,所以叫 Mask Alignment System.


传统光刻机的演变和所面临的挑战

      光刻机是诸多现代技术高度集成的产物, 这些技术是:物理学,光学,化学,材料科学,益阳尼康步进光刻机,精密机械,精密控制,工程学等等。在过往的20几年中,光刻机作为半导体制造业的重要设备,经历了很多次革命。这些变革是伴随着微处理器和DRAM特征尺寸的不断缩减发生的演变。 由于光刻的分辨率与曝光波长、物镜光阑孔径的关系为:分辨率=K1λ/NA所以光刻机的革命主要发生在这样几个方面[2-8]:大NA非球面镜光学系统,短波长光源,分辨率增强技术(降低K1因子),同步扫描工件台等。


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