光刻机
传统光刻机的投影物镜多采用全折射式设计方案，厦门步进光刻机，即物镜全部由旋转对准装校的透射光学元件组成。其优点是结构相对简单，易于加工与装校，厦门光刻机用途，局部杂散光较少。然而，厦门光刻机购买，大数值孔径全折射式物镜的设计非常困难。为了校正场曲，必须使用大尺寸的正透镜和小尺寸的负透镜以满足佩茨瓦尔条件，光刻机，即投影物镜各光学表面的佩茨瓦尔数为零。
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光刻机的匹配使用是指同一产品不同的工艺图层可以分别在不同型号或同一型号不同系列的光刻机上进行光刻，而不影响光刻工艺的质量。亦即保证达到各个工艺图层所要求的套刻精度和线宽控制要求。为达此目标，必须对工艺线上同时使用的光刻机进行各种误差的匹配调整。
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