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     光刻机的匹配使用是指同一产品不同的工艺图层可以分别在不同型号或同一型号不同系列的光刻机上进行光刻,光刻机,而不影响光刻工艺的质量。场镜误差的匹配性最终反映在民机场内套刻误差的差异性上,绍兴光刻机厂,因为每种透镜均有一个特征畸变图形,绍兴步进光刻机,其位置误差作为曝光像场位置的一种函数。


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光刻机光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动

高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。


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