徐州步进光刻机,步进光刻机,晋宇达(查看)

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     张家港晋宇达电子科技有限公司客户主要分布在北京,步进光刻机,上海,苏州,无锡,绍兴,深圳,东莞,厦门,镇江步进光刻机,福州,西安等地区。扫描步进投影曝光(Scanning-Stepping Project Printing)...


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产品详情

     张家港晋宇达电子科技有限公司客户主要分布在北京,步进光刻机,上海,苏州,无锡,绍兴,深圳,东莞,厦门,镇江步进光刻机,福州,西安等地区。

扫描步进投影曝光(Scanning-Stepping Project Printing)。90年代末~至今,用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4:1的比例曝光,曝光区域(Exposure Field)26×33mm。优点:增大了每次曝光的视场;提供硅片表面不平整的补偿;提高整个硅片的尺寸均匀性。但是,徐州步进光刻机,同时因为需要反向运动,增加了机械系统的精度要求。


张家港晋宇达电子科技有限公司

     光刻机中工作台上设置有一个特定的检测系统(1NSITU),在检测系统上设置了几组基准标记(FiducialMark),每台设备中各基准标记相对于曝光轴之间的距离是一组设备常数,在设备出厂前作为机器常数存放在相应的软件文件中。但由于硬件安装、环境变化等多方面原因会造成实际位置和设备常数之间有一个偏差值,即所谓的基准补偿值(BaselineOffset),步进光刻机,通过标准片在不同设备上曝光的位置可以求出隔栅误差的各种差异,进而根据匹配要求,适当加入-定量的基准补偿值进而达到最.佳的隔栅误差匹配。



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