等离子体表面处理仪的优点：
1.完全彻底地清除表面有机污染物。
2.清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。
3.非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。
4.绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染。
5.常温条件下清洗，电镀清洗，被清洗物的温度变化微小。
6.能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面。等离子体表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。该款等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。这款等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。这款等离子体表面处理仪短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，lcd等离子清洗，同时污染物被等离子体表面处理仪的真空泵抽走，清洗，这款等离子体表面处理仪的清洗程度达到分子级。
等离子去除光致抗蚀剂
在晶片制造工艺中，使用氧等离子体去除晶片表面抗蚀刻(photoresist)。干式工艺唯’一的缺点是等离子体区的活性粒子可能会对一些电敏感性的设备造成损害。为了解决这一问题，清洗fpc，人们发展了几种工艺，其一是用一个法拉第装置以隔离轰击晶片表面的电子和离子;另一种方法是将清洗蚀刻对象置于活性等离子区之外。(顺流等离子清洗)蚀刻率因电压、气压以及胶的量而定，典型的刻蚀率为100nm/min，正常需要10min。
