张家港晋宇达电子科技有限公司是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，尼康步进光刻机，所以叫 Mask Alignment System.
张家港晋宇达电子科技有限公司客户主要分布在北京，上海，常州尼康步进光刻机，苏州，无锡，绍兴，深圳，东莞，无锡尼康步进光刻机，厦门，福州，西安等地区。
扫描步进投影曝光（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末～至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。
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