在等离子体中存在下列物质：被加速而处于高速运动状态的电子；处于激发状态的中性原子、分子；离子化的原子、分子；解离反应过程生成的紫外线；未反应的原子和分子。
等离子体状态中，在电场中加速运动的电子和离子具有很大的动能，能提供激发氧气和四氟化碳(CF4)组成的体系活化所需要的能量。另外，等离子体中含有紫外线和其他光能量，清洗fpc，都可以被表面处理工艺加以利用。例如，OLED清洗，将塑料表面进行等离子体处理，可以改善和提高它，清洗，们的印刷性能，这种工艺早已在实践中得到应用。现在半导体中用等离子体处理，促进薄膜形成、结晶成长、离子加工、表面分析，已形成丰富多彩的工艺应用。
等离子体清洗技术的清洗原理、清洗类型、清洗设备及清 洗特点，分析了等离子体清洗技术的发展现状，着重介绍了等离子体清洗技术在航空航天制造业中铝合金表面涂装前处理、电连接器涂胶前处理、复合材料表面处理 和芳纶制件表面处理等应用，并分析了其在航空航天领域的应用前景。
随着微电子技术及工艺的飞速发展，湿法清洗技术越来越暴露出其一定的局限性。然而，干法清洗技术不但能够避免湿法清洗带来的环境污染问题，同时也使生产效率也大大得到了提高。通过大量的实践，等离子体清洗技术在干法清洗中优势非常明显。
