等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入反应室被真空泵抽真空，气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法:反应性等离子体(RIE)，顺流等离子体(downstream)，直接等离子体(directionplasma)。
等离子清洗原理与超声波原理不同，在线等离子表面处理机，当舱体里接近真空状态时，开启射频电源，这时气体分子电离，产生等离子体，并且伴随辉光放电现象，等离子体在电场下加速，从而在电场作用下高速运动，对物体表面发生物理碰撞，等离子的能量足以去除各种污染物，同时氧离子可以将有机污染物氧化为二氧化碳和水蒸气排出舱体外。
等离子清洗不需要其他的原料，在线等离子清洗机，只要空气就能够满足要求，使用方便而且没有污染，同时比超声波清洗更具有的优势是等离子不但可以进行表面清洗，在线等离子处理设备，更重要的是可以提高表面活性，等离子，等离子体与物体表面进行化学反应能够产生活性化学集团，这些化学集团有很高的活性，从而应用范围很广，比如提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，邦定性，亲水性等等很多方面，因此等离子清洗已经成为清洗行业的主流与趋势。
