铝电解电容在工艺上
除了已经实现生产机械化和自动化以外，铝电解电容器在工艺上的进展主要是腐蚀相赋能两个工艺。铝箔的腐蚀系数不但已经很高(低压电容器箔已达100，电容，高压者达25)，而且可以根据对电容器的性能要求，腐蚀出不同坑洞形貌的铝箔。腐蚀工艺是一种腐蚀液种类、浓度、温度、原箔成分、结构、表面状态、腐蚀过程中箔速度以及电源类型、波形、频率、电压等的动态平衡工艺。问题是如何得出最‘佳的动态平衡和如何根据要求确定出最传平衡。因此，对现在的腐蚀工艺还不能说已经达到了最’佳状态。
现 在的赋能工艺已经可以制造出优质的介质氧化膜，而且还可以根据要求不同， 450V3300UF电容，制造出不同的介质氧化膜，例如，对直流电容器，制造出γ和γ’型结晶氧化铝膜，对交流电容器，则为非晶膜。赋能工艺最‘大的进展是能将氢氧化铝膜转变成介质氧化铝膜、并能在其表面形成防水层。此外，还能消除介质膜的疵点和龟裂。
铝电解电容产品在电子行业中的应用
作为三大被动电子元器件（电阻、电容及电感器）之一的电容器，在电子元器件产业中占有重要的地位，是电子线路中必不可少的基础电子元器件，电容器产业的发展水平在很大程度上影响着我国电子设备制造业的发展，400V470UF电容 ，是国家重点发展的产业。
电容器约占整机电子元器件用量的40%左右，而铝电解电容占整个电容器产量的34%左右。就性能而言，由于铝电解电容器具有体积小、储电量大、成本低的优势，同时，加上其在高压、大容量领域占据主导地位，在铝电解电容器技术进步不断提升、产品结构不断丰富的情况下，未来铝电解电容器在整个电容器市场占比有望进一步提升。
铝电解电容器除了在电视机、电脑、手机、数码相机等传统消费电子领域快速增长的同时，近年来在汽车电子领域中的应用也逐渐普及。
