与此同时，专业化，规模化的洗涤公司遍及大街小巷．大大小小的专业家庭清洁．保洁公司大量出现，民用清洗领域呈现商业化。专业化运作的局面． 随着我国国民经济的持续高速发展．人们对日常生活质量提出了更高的要求，从远古以来．人类就了解和掌握了一些与自身有关的清洗知识．在古代，人们除了用清水去除沾附在身体和衣物上的泥沙之外，清洗腐蚀设备，还知道用草木灰去除衣物上的油性污垢．纯碱和肥皂是人类至今仍然在大量使用的历史最为悠久和普遍的清洗用品．
水基清洗机原理：
清洗机由于应用场合和洗涤对象的不同，以及污垢附着的基体的性质差异很大，清洗机理也是复杂的。可简单地将清洗分为以三个过程：
●向被洗物内浸透洗净溶液的过程一浸透作用；
●污垢从固体表面分离的过程—扩张作用； 污垢进行分散保护的过程的过程—分散、浮化、可溶化作用；
●污垢从被洗物除去的过程。
在利用水基清洗机进行清洗时，洗涤对象的表面活性物质的表面性能发生了相当大的变化，如果将1cm3立方体分割成1021个立方体的话，可以计算出它的表面积总和将为6000m2，这时此物质的表面及界面的特性就上升为主要的了，清洗，其自由能，表面张力等均发生了质的变化。表面张力为一定值时的浓度。在此浓度下，水基清洗机里的水溶液的许多物理化学性质会发生显著的变化，使用时应特别注意。
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
