等离子体利用的是在0.13～13.3Pa的低真空条件下生成的离子
1. 33X10-5Pa高真空度下得到的离子射线法是有区别的。
2．等离子体在精密清洗中的应用
利用等离子体的干式清洗机理，COG端子清洗，目前还不完全清楚，感兴趣的读者可查阅有关专业书籍，COF清洗，这里只介绍一些具体应用。
目前应用于等离子体清洗的气体包括N2、Ar、NF3、CF4等不活泼气体和氧气等活泼气体。
等离子体表面处理仪的优点：
1.完全彻底地清除表面有机污染物。
2.清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。
3.非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。
4.绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染。
5.常温条件下清洗，清洗，被清洗物的温度变化微小。
6.能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面。等离子体表面处理仪是一种小型化、超清洗设备。该款等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，苏州LCD基板清洗，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。这款等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。这款等离子体表面处理仪短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被等离子体表面处理仪的真空泵抽走，这款等离子体表面处理仪的清洗程度达到分子级。
