半导体清洗机
半导体清洗机原理主要是通过换能器，然后将功率超声频源的声能转换成机械振动，通过清洗槽壁将超声波辐射到槽子中的清洗液。由于受到了超声波的辐射，使槽内液体中的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动。
在液体中传播的超声波能对物体表面的污物进行清洗，其原理可用“空化”现象来解释：超声波振动在液体中传播的音波压强达到一个大气压时，其功率密度为0.35w/cm2，那么这时超声波的音波压强峰值就可达到真空或负压，半导体清洗机，但是实际上无负压存在，清洗，因此在液体中就会产生一个很大的力，然后将液体分子拉裂成空洞一空化核。此时空洞会非常接近真空的，它在超声波压强反向是会达到*大时破裂，由于破裂而产生的强烈冲击再将物体表面的污物撞击下来。这种由无数细小的空化气泡破裂而产生的冲击波现象称为“空化”现象。
汽车/工程机械/机车工业：
需要清洗的产品：发动机部件（如缸体、缸套、阀体、活塞、活塞环、气门等）、点火栓、制动泵、转向机、减振器、各类精密零部件等
污染源：油、润滑油、防腐剂、机械切屑、塑料残留物、研磨磨料、石墨、焦油、尘垢、碳
使用清洗剂：有机性洗涤剂；轻油(洗油等)；碱性洗涤剂，硅片清洗机价格，酸性洗涤剂，半导体清洗台，中性洗涤剂；纯水
清洗机机械/工具/量具/刃具工业：
需要清洗的产品：轴承、螺丝、喷嘴、齿轮、夹具、固定装置用附件、弹簧、钻研模具、床身、阀、游标卡尺、挫刀、各类量具、各类刃具、各类机械零件等
污染源1：磨料、切屑、防腐剂、切削油、冷却油、磨削砂轮孔的堵塞、助熔剂
污染源2：灰尘、氧化皮
使用清洗剂1：有机性洗涤剂；轻油(洗油等)
使用清洗剂2：碱性洗涤剂，酸性洗涤剂，中性洗涤剂；纯水
