清洗机设备
平制造工程和制造工艺
作为LCD制造工艺有代表性的清洗处理有以下几类：
1）白玻璃基板清洗
2）刻蚀处理后的清洗
3）屏组装工程的清洗
摩擦后清洗
US气吹
屏清洗装置
清洗检测装置
4）其他相关的附带清洗装置
边框胶印刷用版的清洗
夹具的清洗
彩膜的清洗
掩膜版的清洗
取向膜剥离清洗
卷扬干燥机
IPA蒸气干燥机
旋转
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
清洗液的物理化学性质对清洗效果的影响
清洗液的静压力大时，不容易产生空化，半导体清洗台，所以在密闭加压容器中进行超声清洗或处理时效果较差
清洗剂的选择要从两个方面来考虑：一方面要从污物的性质来选择化学作用效果好的清洗剂；另一方面要选择表面张力、蒸气压及粘度合适的清洗剂，因为这些特性与超声空化强弱有关。液体的表面张力大则不容易产生空化，但是当声强超过空化阈值时，空化泡崩溃释放的能量也大，硅片清洗机价格，有利于清洗；高蒸气压的液体会降低空化强度，而液体的粘滞度大也不容易产生空化，因此蒸气压高和粘度大的洁洗剂都不利于超声清洗。
此外，清洗液的温度和静压力都对清洗效果有影响，清洗液温度升高时空化核增加，对空化的产生有利，但是温度过高，BOE清洗设备，气泡中的蒸气压增大，空化强度会降低，清洗，所以温度的选择要同时考虑对空化强度的影响，也耍考虑清洗液的化学清洗作用每一种液体都有一空化活跃的温度，水较适宜的温度是60-80℃，此时空化最活跃。
超声波清洗机酿造/制药工业：
需要清洗的产品：瓶、盖子、标签去除装置、排气装置、处理器皿、处理用器具、充填装置管道等
污染源：残剩食物、指纹、灰尘、线头、淀粉、染料、蛋白印刷(烘烤前)油、润滑油、硅油
使用清洗剂：碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂；有机洗涤剂；纯水
清清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
