通用超声波清洗机 超声波清洗机的结构通常有超声电源和清洗器合为一体或分隔隔离分散结构两种形式，通常小功率(200W以下)清洗机用一体式结构，而大功率清洗机采用分体式结构。
超声波清洗机分体式结构由三个主要部分构成 (1)清洗缸； (2)超声波制作生器； (3)超声波换能器；
超声波清洗设施通常可分为通用和专用两种机型。
楷模的软磁器件超声波清洗设施介绍：被清洗物件从进料口可传动的不锈钢专用网带送人超声波清洗槽清洗，再经喷淋、烘干等工序后出料，实现被清洗物件可直接包装入库。
机械零部件的污垢主要有润滑脂、防锈油脂及其他混合物组成的油泥，可以采用碱性清洗液清洗、电化学清洗，也可采用超声波清洗机清洗，RCA清洗机，超声波清洗机清洗是一个清洗的专门类别，属工业清洗。采用碱性清洗液清洗 碱性清洗液化学清洗的工艺流程为：装挂－碱液清洗－水洗（50-90℃热水）－干燥（热压缩空气吹干，要求较高的零部件，SH去胶清洗机，经压缩空气吹干后，半导体清洗台，还需要在105-1150C的电热鼓风干燥箱中烘烤10分钟. 采用碱性清洗液的电化学清洗 超声波清洗应注意下列点：不宜清洗机件表面较厚的油污，油污较厚时需采用高压喷淋的方法进行预清洗，对于弹簧件、薄壁钢件，超高强度钢件等不能在阴极上清洗（为避免材料渗氢，产生氢脆现象）；对铜、锌、镍等材料制成的机件不能在阳极上清洗（避免材料表面氧化）；定期进行电解液的定量分析，按分析结果补充化学试剂。
半导体清洗机
半导体清洗机原理主要是通过换能器，然后将功率超声频源的声能转换成机械振动，通过清洗槽壁将超声波辐射到槽子中的清洗液。由于受到了超声波的辐射，使槽内液体中的微气泡能够在声波的作用下从而保持振动。
在液体中传播的超声波能对物体表面的污物进行清洗，其原理可用“空化”现象来解释：超声波振动在液体中传播的音波压强达到一个大气压时，其功率密度为0.35w/cm2，清洗，那么这时超声波的音波压强峰值就可达到真空或负压，但是实际上无负压存在，因此在液体中就会产生一个很大的力，然后将液体分子拉裂成空洞一空化核。此时空洞会非常接近真空的，它在超声波压强反向是会达到*大时破裂，由于破裂而产生的强烈冲击再将物体表面的污物撞击下来。这种由无数细小的空化气泡破裂而产生的冲击波现象称为“空化”现象。
