化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，硅片，去离子，去原子，最后还有DI清洗。IPA是异丙醇，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。
苏州晶淼是一些多年从事半导体湿法设备研发、制造的人员，因共同的理念，共同的信念，共同的使命感，硅片刻蚀，聚拢在一起的团队。晶淼专于制造，用心细节，以客户为中心，视口碑为生命，以进取奋斗为本；视提升、超越、发展个人价值，更好服务社会为人生意义所在。专业，严谨，硅片酸洗设备，真诚，守信、团队合作，开放进取。晶淼必将是湿制程设备，未来的引领者！
JM 必属精品，必将成为湿制程设备供应商的典范！
硅片刻蚀台
苏州晶淼作为国内领先的湿法制程设备制造企业之一，一直全心服务于微电子集成电路、半导体材料、半导体照明LED、光伏太阳能、LCD-TFT 液晶等行业领域。通过多年清洗设备的研发生产经验及周到快捷的售后服务赢得了越来越多的客户信赖。
多年来，苏州晶淼一直专注于为半导体材料、微电子集电路、LED、有机发光二级管、三极管、电力电子器件、分立器件、MEMS传感器、光伏太阳能、等行业域提供完备工序的湿法清洗、腐蚀制程设备。
我国在上世纪60年代自行研制和生产了第*一台计算机，其占用面积大约为100 m2以上，现在的便携式计算机只有书包大小，而将来的计算机可能只与钢笔一样大小或更小。计算机体积的这种迅速缩小而其功能越来越强大就是半导体科技发展的一个很好的佐证，其功劳主要归结于：(1)半导体芯片集成度的大幅度提高和晶圆制造(Wafer fabrication)中光刻精度的提高，使得芯片的功能日益强大而尺寸反而更小；(2)半导体封装技术的提高从而大大地提高了印刷线路板上集成电路的密集度，使得电子产品的体积大幅度地降低。
硅片酸洗设备|镇江硅片|苏州晶淼半导体由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。苏州晶淼半导体设备有限公司（www.jmbdt.com）为客户提供“半导体清洗机 , 半导体清洗设备,半导体湿法设备”等业务，公司拥有“苏州晶淼半导体设备”等品牌。专注于其它等行业，在江苏 苏州 有较高知名度。欢迎来电垂询，联系人：王经理。
