等离子体本身是一种良导体，所以能利用磁场来控制等离子体的分布和它的运动，这有利于化工过程的控制。
④热等离子体提供了一个能量集中、温度很高的反应环境。温度为104～105℃的热等离子体是目前地球上温度最‘高的可用热源。它不仅可以用来大幅度地提高反应速率，而且还可借以产生常温条件下不可能发生的化学反应。此外，热等离子体中的高温辐射能引起某些光电反应。
应用
①以热等离子体制备乙炔、硝酸、联氨和炭黑等产品。
②用热等离子技术合成高温碳化物、氮化物和硼化物，如碳化钨、氮化钛等。
③用热等离子技术制备超细粉末，如0.01～1μm的三氧化二铝、二氧化硅和氮化硅粉末。
④冷等离子体中的聚合薄膜的形成或清洗，如半导体工业中的氧化硅膜。
⑤在冷等离子体中实现材料表面改性，如离子氮化、渗碳等工艺。
⑥等离子体技术应用于油气田生产，可进行深部解堵。
等离子体清洗的应用
一般来讲，电镀清洗，清洗/蚀刻意思是去除产生
干扰的材料。清洗效果的两个实例是去除氧化物以提高钎焊质量和去除金属、陶瓷及塑料表面有机污染物以改善粘接性能。等离子体最初应用于硅片及混装电路的清洗以提高键接引线和钎焊的可靠性。如:去除半导体表面的有机污染以保证良好的焊点
相对而言，清洗，干法清洗在这些方面有较大优势，特别是以等离子清洗技术为主的清洗技术已逐步在半导体、电子组装、精密机械等行业开始应用。因此，有必要了解等离子清洗的机理及其应用工艺。
