无锡三氟化氮,江苏科米克,销售三氟化氮

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简 介三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,三氟化氮,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧...


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简 介

三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,三氟化氮,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性(对氧化硅和硅),它在蚀刻时,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

 


分子结构

相对密度(气体,销售三氟化氮,空气=1,20℃,101.325kPa):2.46

  比容(21.1℃,三氟化氮是微电子,101.325kPa):0.3371m3/kg

  气液容积比(15℃,无锡三氟化氮,100kPa):520L/L

  临界温度:-39.3℃

  临界压力:4530kPa

  临界密度:522kg/m3

  临界压缩系数:0.317

  熔化热(-206.79℃,101.325kPa):5.61kJ/kg

  气化热(-129℃,101.325kPa):163.29kJ/kg

  比热容(气体,25℃,101.325kPa):Cp=751.68J/(kg·K)

  蒸气压(-171℃):1.333kPa

  (-100℃):470kPa

  (-60℃):2200kPa



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