按照清洗机序言的不同，又概略分为湿式清洗机与干式清洗机：一样平常将在液体介质中发展的清洗机称为湿式清洗机，腐蚀，在气体介质中发展的清洗机称为干式清洗机．保守的清洗机门径大多为湿式清洗机，而人们比较容易明确的干式清洗机也即是吸尘器．但迩来几年来，干式清洗机发展麻利．如激光清?洗．紫内线清洗机，半导体腐蚀设备，等离子清洗机、干冰清洗机等，在高。精，尖财打造手艺范畴得到快速发展．
超周详清洗机包罗周详财发作打造过程当中对机械整机、电子元件，光学部件等的超周详清洗机，以革除极细微污垢颗粒为目的。
一样平常财打造清洗机包罗车辆，轮船、飞机外表的清洗机，一样平常只能去掉比较轻微的污垢；
半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。
在半导体湿式清洗制程中，晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学药品与清洗设备，清除来自周遭环境所附着在晶圆表面的脏污，以达到半导体组件电气特性的要求与可靠度。过去 RCA 多槽湿式清洗一直是晶圆清洗的主要技术，不过随着近年来制程与清洗设备的演进，不但在清洗制程中不断产生新的技术，也随着半导体后段封装技术的演进，清洗设备也逐渐进入封装厂的生产线中。
