射频等离子清洗,捷纳特,清洗

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射频等离子清洗,捷纳特,清洗

光伏产业等离子应用光伏产业对清洁生产的要求非常苛刻。太阳能级的硅片虽然纯净度不需要达到电子级,但是6个9的纯度也还是很高的。在切片等过程中,硅片或多或少会接触到各种污染源,因此清洗显得至关重要。等离子清洗是经常用到的一种方法。这些自由...


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光伏产业等离子应用

光伏产业对清洁生产的要求非常苛刻。太阳能级的硅片虽然纯净度不需要达到电子级,但是6个9的纯度也还是很高的。在切片等过程中,硅片或多或少会接触到各种污染源,因此清洗显得至关重要。等离子清洗是经常用到的一种方法。这些自由基会进一步与材料表面作反应。

其反应机理主要是利用等离子体里的自由基来与材料表面做化学反应,在压力较高时,对自由基的产生较有利,AFC清洗,所以若要以化学反应为主时,就必须控制较高的压力来近进行反应。


等离子清洗需要控制的真空度约为100Pa,这种清洗条件很容易达到。因此这种装置的设备成本不高,加上清洗过程不需要使用价格较为昂贵的有机溶剂,这使得整体成本要低于传统的湿法清洗工艺;

使用等离子清洗,避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施,所以生产场地很容易保持清洁卫生;

等离子体清洗可以不分处理对象,表面清洁,它可以处理各种各样的材质,射频等离子清洗,无论是金属、半导体、氧化物,清洗,还是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物)都可以使用等离子体来处理。因此特别适合于不耐热以及不耐溶剂的材质。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗;

在完成清洗去污的同时,还可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能、改善膜的黏着力等,这在许多应用中都是非常重要的。