清洗,硅片清洗机价格,苏州晶淼半导体

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清洗,硅片清洗机价格,苏州晶淼半导体

半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接...


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半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。


清洗液的物理化学性质对清洗效果的影响

清洗液的静压力大时,不容易产生空化,所以在密闭加压容器中进行超声清洗或处理时效果较差

清洗剂的选择要从两个方面来考虑:一方面要从污物的性质来选择化学作用效果好的清洗剂;另一方面要选择表面张力、蒸气压及粘度合适的清洗剂,因为这些特性与超声空化强弱有关。液体的表面张力大则不容易产生空化,但是当声强超过空化阈值时,空化泡崩溃释放的能量也大,有利于清洗;高蒸气压的液体会降低空化强度,而液体的粘滞度大也不容易产生空化,因此蒸气压高和粘度大的洁洗剂都不利于超声清洗。

此外,清洗液的温度和静压力都对清洗效果有影响,清洗液温度升高时空化核增加,硅片清洗机价格,对空化的产生有利,但是温度过高,气泡中的蒸气压增大,空化强度会降低,所以温度的选择要同时考虑对空化强度的影响,也耍考虑清洗液的化学清洗作用每一种液体都有一空化活跃的温度,水较适宜的温度是60-80℃,此时空化最活跃。


也许大家对清洗机这样一种设备并不是很了解,但它却是在我们的生活中经常用到,下面为大家介绍一下清洗机的主要用途。

  1、航天、航空——清洗精密零部件。电子线路板,飞机轮毂,刹车系统、空调热交换器,轴承,各种金属件。

  2、铁路——各种闸阀,制动阀,减震器,轴承套件,清洗,客车,冷藏车制冷系统的冷凝器,散热器,机车内燃机零、部件,电器零、部件。

  3、汽车、摩托车制造业——缸体,盖,转向机构,减震器及各种机加工零件,底盘,轮毂电泳前的除油、除锈、除氧化皮。

  4、光学器件——照相机镜头,显微镜,望远镜,眼镜,钟表玻璃,光学透镜的研磨后,镀膜前清洗。

  5、液晶(LCD)制造——LCD基板镀ITO膜前清洗,LCD基片刻蚀,灌注液晶的前道,后道工序清洗。

  6、电子制造、通讯、计算机——SMT贴片,PCB板焊接后的助焊剂,杂质清洗。

  7、微电子——单晶硅片,半导体清洗台,集成电路制造的工序过程清洗。

  8、电子电器元器件——各种电阻,电容,电子器件,磁器件,低压电器制品的清洗。

  9、五金冲压件——各种五金制品的冲压后除油、除锈、除氧化物、除污等清洁。

  10、机械的零件——各种精密加工金属零件的除油、除屑、除锈、除氧化物、除污等清洁。

  11、家电产品——各种家电产品制造如彩色显像管,空调,冰箱零部件,热水器,灶具,电饭锅,电磁灶,电风扇,榨汁机,电熨斗等金属件清洗。

  12、电镀,真空镀——镀前除锈,氧化层,除油,除抛光蜡,抛光膏等清洗。

  13、钟表、眼镜、珠宝--制造过程金属表壳,表带,机芯零件,眼镜架,珠宝研究抛光后的精密清洗。

  14、电机,微电机--转子,空子,矽钢片,机壳,电机片的除油清洗。

  15、容器类--各种口服液容器,食品玻璃金属容器,化妆品容器类,包装容器类,牙科器具清洗、检验板。

  16、医用器具--内窥镜,手术器械,BOE清洗台,注射器,试管,生化检验容器,玻璃片的血液,组织液,污物清洗。

  17、中药材有效成份萃取--替代传统的高温水煮萃取工艺,高效并保护有效成份。

  18、喷淋清洗机:维修清洗--各种设备,设施,交通运输车辆工具,家用电器维修中的除油,除尘,除垢清洗;印刷行业的胶辊、丝印网清洗,打印机喷头清洗,CD/VCD/DVD光盘清洗

  19、液压油清洗--循环冲洗过滤装置广泛应用于油库、飞机制造、航空、工程机械、冶金和造船等行业,用于冲洗过滤液压系统在制造、装配、使用过滤,提高清洁度,避免或减少因污染而造成的故障。