杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。ITO靶灰回收厂家，ITO靶灰，ITO靶灰回收价格，ITO靶灰回收利用
因此，ITO靶灰，生产铟主要是有锌及锡铜冶炼过程中的中间产物中富集和提取铟。由此看来从含铟废料中通过先进的技术手段，昆山ITO靶灰，在不污染环境的前提下提取精铟，促进铟的重复循环利用有着非常重要的意义。
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