苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、高端PP/PVC通风柜/厨、CDS化学品集中供液系统一站式解决方案。我们的产品广泛应用与微电子、半导体、光伏、光通信、LED等行业及高等院校、研究所等等科技领域的生产和研发。
湿法清洗 ：
湿法清洗采用液体化学溶剂和DI水氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。通常采用的湿法清洗有RCA清洗法、稀释化学法、 IMEC清洗法、单晶片清洗等。
按照清洗机序言的不同，清洗腐蚀台，又概略分为湿式清洗机与干式清洗机：一样平常将在液体介质中发展的清洗机称为湿式清洗机，半导体腐蚀设备，在气体介质中发展的清洗机称为干式清洗机．保守的清洗机门径大多为湿式清洗机，腐蚀，而人们比较容易明确的干式清洗机也即是吸尘器．但迩来几年来，干式清洗机发展麻利．如激光清?洗．紫内线清洗机，等离子清洗机、干冰清洗机等，在高。精，尖财打造手艺范畴得到快速发展．
超周详清洗机包罗周详财发作打造过程当中对机械整机、电子元件，光学部件等的超周详清洗机，以革除极细微污垢颗粒为目的。
一样平常财打造清洗机包罗车辆，轮船、飞机外表的清洗机，一样平常只能去掉比较轻微的污垢；
