靶材的结晶粒子直径和均匀性 已被认为是影响薄膜沉 积率的关键因素。另外，铟块，薄膜的纯度与靶材的纯度关 系极大，过去99.995 %（4 N5） 纯度的铜靶，扬州铟块，或许能够满 足半导体厂商0.3 5pm 工艺的需求，但是却无法满足如今0.2 5um的工艺要求， 而未米的 0.18um }艺甚至0.13m工艺，上海铟块，所需要的靶材纯度将要求达 到5甚至 6N以上。铜与铝相比较，铜具有更高的抗电迁移能力及更 低的电阻率，能够满足！ 铟靶材厂家，铟靶材价格，铟靶材回收，铟靶材哪家好
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