酸腐蚀清洗设备,腐蚀, 苏州晶淼半导体

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酸腐蚀清洗设备,腐蚀, 苏州晶淼半导体

     RCA清洗法:依靠溶剂、酸、表面活性剂和水,酸腐蚀清洗设备,在不破坏晶圆表面特征的情况下通过喷射、净化、氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。在每次使用化学品后都要在超纯水(UPW)中彻底清洗。以下是常用清洗...


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     RCA清洗法:依靠溶剂、酸、表面活性剂和水,酸腐蚀清洗设备,在不破坏晶圆表面特征的情况下通过喷射、净化、氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。在每次使用化学品后都要在超纯水(UPW)中彻底清洗。以下是常用清洗液及作用。


清洗安全操作规范:


(1)操作前,腐蚀,一定要检查工作台通风是否良好,如有异常,向上级汇报或向动力保障部门说明情况,请求调整;

(2)在通风橱里开启药品,并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套

(3)试剂开启前,都必须将外面的塑料袋、橡皮筋取下并扔进垃圾桶;

(4)拧开药品盖后,取下瓶口的塑封膜并扔进垃圾桶,金属腐蚀清洗机,在倾倒药品时,一定要确定塑封膜是否在瓶上。






清洗的设备仪器

      主要以湿法清洗为主,以下是与湿法清洗相关的设备仪器。有机溶剂清洗机:循环去离子(DI)水,对蓝宝石进行冲洗;形成局部通风区域,对清洗过程产生的有毒腐蚀性气体进行及时排除。