专用超声波清洗机
荡涤成绩好，干净度高且全数工件干净度一致。 荡涤速率快，腐蚀，提高生产效率，不须人手构兵荡涤液，显影腐蚀机，安全可靠。 对深孔、细缝和工件隐蔽处亦可荡涤干净。 对工件表面无损伤，节俭溶剂、热能、工作园地和人工。
超声波产生器超声荡涤频率从十几kHz到100kHz之间，在应用水或水荡涤剂时由空穴劝化惹起的物理荡涤力显明对低频不利，一样平常应用15-30kHz左右。对小间隙、狭缝、深孔的零件荡涤，用高频（一样平常40kHz以上）较好，甚至几百kHz。对钟表零件荡涤时，用400kHz。若用宽带调频荡涤，成绩更良好。 水荡涤液最符合的荡涤温度为40-60℃，尤其在天冷时若荡涤液温度低空化效应差，荡涤成绩也差。是以有局部荡涤机在荡涤缸外边绕上加热电热丝发展温度控制，当温度抬高后空化易产生，以是荡涤成绩较好。当温度继续抬高以后，空泡内气体压力增进，湿法腐蚀，惹起打击声压下降，反应出这两因素的相乘劝化。
专用超声波清洗机一样平常安设在某些特定物件荡涤的生产流水线上。科泰生产超声波清洗机清洗机，做工后世，拥有多年的出产和销售教育，攻陷的中国大局部市场，欢迎换购本厂生产的超声波清洗机清洗机. 模范的软磁器件超声波清洗机清洗装备引见：被荡涤物件从进料口可传动的不锈钢专用网带送人超声波清洗机清洗槽荡涤，再经喷淋、烘干等工序后出料，酸腐蚀清洗设备，实现被荡涤物件可直接包装入库。
表面清洗正成为此类半导体加工中不断出现的问题。这是因为衬底晶体的低劣质量（而不是其表面洁净度）不再是限定与那些材料有关的制造良率的主导因素。随着各种半导体材料衬底单晶质量的提高，考虑因素就会变化，会对清洗技术给予更加密切的关注。
RCA清洗法 ：
最初，人们使用的清洗方法没有可依据的标准和系统化。1965年， RCA（美国无线电公司）研发了用于硅晶圆清洗的RCA清洗法，并将其应用于 RCA元件制作上。该清洗法成为以后多种前后道清洗工艺流程的基础，以后大多数工厂中使用的清洗工艺基本是基于最初的RCA清洗法。
