基片湿处理设备；硅片清洗刻蚀设备；硅片腐蚀台;湿台;全自动RCA清洗设备;外延钟罩清洗机（专利技术）；硅片电镀台；硅片清洗机；石英管清洗机；LED清洗腐蚀设备等。 光伏太阳能：全自动多晶硅块料腐蚀设备；多晶硅硅芯硅棒腐蚀清洗机；太阳能硅片切片后全自动腐蚀设备；太阳能硅片制绒酸洗设备；去磷硅玻璃清洗线；石英管酸洗设备等（含自动干燥功能、自动补液上液功能）。 LCD液晶：LCD液晶减薄设备；化学自动供液系统（CDS）；尾气处理设备及辅助设备；液晶玻璃清洗设备等。
另外，半导体清洗台，对承压缸体的自增强处理工艺很关键，清洗，我们一般是以两倍工作压力使其内壁产生压缩预应力，产生径向扩大的残余变形。这样，在工作承压后，应力分布比较均匀，全部应力维持在弹性范围内，弹性承载能力增大，提高缸体疲劳寿命，设计原则是选择材料和工艺给出适合自增强压力和最*佳自增强度
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
清洗主风机、气压机、烟机、汽轮机、鼓风机等设备及各式加热炉、反应器等结焦结炭的清除。清洗换热器上的聚氯乙烯树脂；清除压缩机、储罐、锅炉等各类压力容器上的油污、锈污、烃类及其表面污垢；清理反应釜、冷凝器；复杂机体除污；炉管清灰等。
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；
