用途
三氟化氮主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子 蚀刻气体，对硅和 氮化硅蚀刻，三氟化氮气体，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与 氧气的 混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，镇江三氟化氮，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。
基本资料
化学品英文名称： nitrogen trifluoride 英文名称： nitrogen fluoride
分子结构：三角锥
键角：102.5°
分子量：71.0019
熔点(101.325kPa)：-206.79℃
沸点(101.325kPa)：-129.0℃
液体密度(-129℃，101.325kPa)：1540kg/m3
气体密度(20℃，101.325kPa)：2.96kg/m3 相对密度(气体，空气=1，20℃，101.325kPa)：2.46
比容(21.1℃，101.325kPa)：0.3371m3/kg
气液容积比(15℃，三氟化氮生产商，100kPa)：520L/L
临界温度：-39.3℃
临界压力：4530kPa
临界密度：522kg/m3
临界 压缩系数：0.317
熔化热(-206.79℃，101.325kPa)：5.61kJ/kg
气化热(-129℃，101.325kPa)：163.29kJ/kg
比热容(气体，25℃，101.325kPa)：Cp=751.68J/(kg·K)
蒸气压(-171℃)：1.333kPa
(-100℃)：470kPa
(-60℃)：2200kPa 粘度(气体，25℃，101.325kPa)：0.0183mPa·S
折射率(气体，25℃)：1.0004416
主要成分：纯品
外观与性状：无色、带霉味的气体。
相对密度(水=1)：1.89(沸点，液体)
溶解性：不溶于水。
主要用途：用作高能燃料。
废弃处置方法：根据国家和地方有关法规的要求处置。或与厂商或制造商联系，确定处置方法。
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