杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，残靶材回收，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
为了减少靶材固体中的气孔，残靶材回收，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。ITO靶灰回收厂家，残靶材回收项目，ITO靶灰回收价格，ITO靶灰回收利用
各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成 电路 (VLSI) 、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等 方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代 以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，残靶材回收产业，极大地满足了各种新 型电子元器件发展的需求。例如，在半导体集成电路制造过程中，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝。铟靶材厂家，铟靶材价格，铟靶材回收
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