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超声波清洗机的日常保护与保养      1、维持清洗机的任务场合的通风、枯燥、干净,有利于装备的临时高效运转及优化任务环境条件;  2、洗净液过于龌龊时应及时处理,硅片腐蚀,活期清算清洗槽、贮液槽内污垢,维持洗净槽内及外观的干净,可进...


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超声波清洗机的日常保护与保养

      1、维持清洗机的任务场合的通风、枯燥、干净,有利于装备的临时高效运转及优化任务环境条件;

  2、洗净液过于龌龊时应及时处理,硅片腐蚀,活期清算清洗槽、贮液槽内污垢,维持洗净槽内及外观的干净,可进步洗净槽的耐用性;

  3、电气掌握箱及装备通风口远离水蒸汽、侵蚀性气体、粉尘,活期用收缩空气清算附着的灰尘;

  4、活期测试装备的绝缘性能,超声波清洗机关于易老化电气组件活期检讨,硅片清洗机,检讨接地线,确保装备良好接地此名目须由具备专业经历的电工进行,硅片,;

  5、活期测试电源,确认契合装备的电源电压请求,避开在过高或过低的不稳固电源下临时任务;

  6、带有过滤安装的装备,活期改换过滤芯清洗机同时供给专业的滤芯超声波清洗机

  7、带有传动机构的,应按请求活期加注黄油、机油等光滑剂,活期改换加速机齿轮油,确保静止机件在良好光滑条件下任务;


      半导体器件技术飞速地扩展进入主流硅逻辑和模拟应用以外的领域。在显示技术、太阳电池板技术和一些其它大面积光电系统中,其表面需要加工的材料可能包括玻璃、ITO(铟锡氧化物)或柔性塑料衬底等等。

     


RCA清洗法  :

      最初,人们使用的清洗方法没有可依据的标准和系统化。1965年, RCA(美国无线电公司)研发了用于硅晶圆清洗的RCA清洗法,并将其应用于 RCA元件制作上。该清洗法成为以后多种前后道清洗工艺流程的基础,以后大多数工厂中使用的清洗工艺基本是基于最初的RCA清洗法。



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