杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,残靶材回收,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,残靶材回收表格,通常要求靶材具有较高的密度。ITO靶灰回收厂家,ITO靶灰回收价格,残靶材回收销售,ITO靶灰回收利用
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