湿法腐蚀机,苏州晶淼半导体,山东湿法腐蚀机

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湿法腐蚀机,苏州晶淼半导体,山东湿法腐蚀机

     RCA清洗法:依靠溶剂、酸、表面活性剂和水,湿法腐蚀机,在不破坏晶圆表面特征的情况下通过喷射、净化、氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。在每次使用化学品后都要在超纯水(UPW)中彻底清洗。以下是常用清洗液及...


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     RCA清洗法:依靠溶剂、酸、表面活性剂和水,湿法腐蚀机,在不破坏晶圆表面特征的情况下通过喷射、净化、氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。在每次使用化学品后都要在超纯水(UPW)中彻底清洗。以下是常用清洗液及作用。


清洗的设备仪器

      主要以湿法清洗为主,太仓湿法腐蚀机设备,以下是与湿法清洗相关的设备仪器。有机溶剂清洗机:循环去离子(DI)水,对蓝宝石进行冲洗;形成局部通风区域,对清洗过程产生的有毒腐蚀性气体进行及时排除。





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