BCC的报告显示：全球的上述产业在1999年使用了2.88百万公斤靶材。换算为面积，则溅射了363百万平方米的薄膜。而若以单位靶材来计算，全 球在1999年则大约使用了37400单位的靶材。这里所要指出的是，随着应用产业的不同，靶材的形状与 大小也有所差异，其直径从15G m到 3m都有，ITO靶灰制造，而上述的统计资料，则是平均化后的结果。铟靶材厂家，ITO靶灰厂家，铟靶材价格，铟靶材回收
杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，ITO靶灰，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，ITO靶灰公司，通常要求靶材具有较高的密度。ITO靶灰回收厂家，ITO靶灰回收价格，ITO靶灰回收利用
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