基于APM（NH4OH:H2O2:H2O）的化学材料在微粒去除方面仍占主宰地位，但如果没有兆频超声波强化，其作用就不是很有效。基于最初RCA（HPM：HCl:H2O2:H2O）配方的去除金属的化学材料差不多都放弃了。
与洁净得多的抗蚀剂和化学材料结合在一起的创新化学是在这一领域成功的关键。此外，几何图形非常密集的器件制造的污染控制也推动了各种创新技术的研发，RCA清洗台，例如包括超临界CO2（SCCO2）清洗。
（1）不锈钢原料的机器设备外表存积着富含其它金属元素的粉尘或许是杂类金属颗粒的附着物，在湿闰的空气中，附着物与不锈钢间的冷凝水珠水滴，把两者连成一个微电池，引发了电化学反响，保护膜遭到电化学侵蚀损坏。
2）在不锈钢外表粘附了有机物汁液，例如菜汁、面汤、痰液等，SPM去胶清洗机，在有水氧情况下，就会构成有机酸，在较长时刻的效果下，就会构成有机酸对金属外表进行侵蚀而变成生锈。
（3）在不锈钢原料设备外表粘附富含酸、碱、盐类物质，例如刷墙面的碱水、石灰水等，清洗，这也会引起部门的金属被侵蚀而生锈。
半导体清洗机设备生产线用于PI COAT前清洗设备，描述了LCD生产线（以CSTN为主）上使用的PI COAT清洗设备的主要清洗艺流程及设备的主要组成部分，包括清洗、漂洗、气刀、风干、IR、UV清洗干燥、CP降温、冷却干燥等。
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