各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成 电路 (VLSI) 、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等 方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代 以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，废铟回收，极大地满足了各种新 型电子元器件发展的需求。例如，在半导体集成电路制造过程中，张家港废铟回收，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝。铟靶材厂家，铟靶材价格，铟靶材回收
ITO靶材主要质量指标 化学成分In2O3 SnO2=9010(wt%) 纯度≥99.99% 相对密度~99% 密度均匀性偏差≤±0.3% 相结构单一立方In2O3相 失氧率＜＝3% 单片较大尺寸250mm x 200mm ，废铟回收，厚度可按用户要求任意。
ITO靶主要用于ITO膜透明导电玻璃的制作，后者是制造平面液晶显示的主要材料，在电子工业、信息产业方面有着广阔而重要的应用。靶材的主要性能指标为高纯度≥99.99％ITO靶材回收厂家， ITO靶材回收价格， ITO靶材回收哪家好
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