在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为Ar气），ITO靶材回收方案，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，ITO靶材回收企业，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，ITO靶材回收，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，ITO靶材回收规定，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。铟靶材厂家，铟靶材价格，铟靶材回收
ITO靶材主要质量指标 化学成分In2O3 SnO2=9010(wt%) 纯度≥99.99% 相对密度~99% 密度均匀性偏差≤±0.3% 相结构单一立方In2O3相 失氧率＜＝3% 单片较大尺寸250mm x 200mm ，厚度可按用户要求任意。
ITO靶主要用于ITO膜透明导电玻璃的制作，后者是制造平面液晶显示的主要材料，在电子工业、信息产业方面有着广阔而重要的应用。靶材的主要性能指标为高纯度≥99.99％ITO靶材回收厂家， ITO靶材回收价格， ITO靶材回收哪家好
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