导体工艺在0 .25um 以下 的亚微米布线的需要但却带米了其他的问题：铜与 有机介质材料的附着强度低．并且容易发生反应，导 致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。为了解决以上这些问题，需要在铜与介质层之间设置阻挡 层。阻挡层材料一般采用高熔点、高电阻率的金属及其化合物，因此要求阻挡层厚度小于50n m，与铜及介质材料的附着性能良好。铟靶材厂家，铟回收厂家，铟靶材价格，铟靶材回收，铟回收，铟靶材哪家好
阻挡层材料一般采用高熔点、高电阻率的金属及其化合物，铟回收加工，因此要求阻挡层厚度小于50n m，铟回收公司，与铜及介质材料的附着性能良好。铜互连和铝互连的阻挡层 材料是不同的．需要研制新的靶材材料。铜互连的阻 挡层用靶材包括 T a 、W、T a S i 、WS i 等 ．但是T a 、W 都是难熔金属．制作相对困难，如今正在研究钼、铬 等的台金作为替代材料。铟靶材厂家，铟靶材价格，铟靶材回收，铟靶材哪家好
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