阻挡层材料一般采用高熔点、高电阻率的金属及其化合物，因此要求阻挡层厚度小于50n m，与铜及介质材料的附着性能良好。铜互连和铝互连的阻挡层 材料是不同的．需要研制新的靶材材料。铜互连的阻 挡层用靶材包括 T a 、W、T a S i 、WS i 等 ．但是T a 、W 都是难熔金属．制作相对困难，如今正在研究钼、铬 等的台金作为替代材料。铟靶材厂家，泰州ITO靶材回收，铟靶材价格，铟靶材回收，铟靶材哪家好
各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成 电路 (VLSI) 、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等 方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代 以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，ITO靶材回收，极大地满足了各种新 型电子元器件发展的需求。例如，在半导体集成电路制造过程中，ITO靶材回收，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝。铟靶材厂家，铟靶材价格，铟靶材回收
ITO靶材回收|苏州仟鑫金属材料|ITO靶材回收由苏州仟鑫金属材料有限公司提供。ITO靶材回收|苏州仟鑫金属材料|ITO靶材回收是苏州仟鑫金属材料有限公司（www.111.com）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取新的信息，联系人：秦先生。
