半导体硅（芯）片清洗机：
该设备主要用于清除硅（芯）片表面的废屑、金属离子等物质，是硅（芯）片生产过程中重要工序。设备主要技术特点：1.可靠的控制系统；2.触摸屏控制显示 ；3.可设置和存储工艺菜单；4.高压去离子水泵5.喷头H轴Y轴调节6.在线电阻率检测水质；7.清洗后高纯氮气干燥模块；8.自动排水装置；9.对硅片定位框架的安全定位。
超声波清洗机的日常保护与保养
1、维持清洗机的任务场合的通风、枯燥、干净，有利于装备的临时高效运转及优化任务环境条件；
2、洗净液过于龌龊时应及时处理，活期清算清洗槽、贮液槽内污垢，维持洗净槽内及外观的干净，可进步洗净槽的耐用性；
3、电气掌握箱及装备通风口远离水蒸汽、侵蚀性气体、粉尘，活期用收缩空气清算附着的灰尘；
4、活期测试装备的绝缘性能，超声波清洗机关于易老化电气组件活期检讨，检讨接地线，确保装备良好接地此名目须由具备专业经历的电工进行，SC-1清洗机，；
5、活期测试电源，确认契合装备的电源电压请求，避开在过高或过低的不稳固电源下临时任务；
6、带有过滤安装的装备，活期改换过滤芯；清洗机同时供给专业的滤芯超声波清洗机。
7、带有传动机构的，应按请求活期加注黄油、机油等光滑剂，活期改换加速机齿轮油，清洗，确保静止机件在良好光滑条件下任务；
半导体清洗机湿式清洗制程中，主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项。至于脏污的来源，RCA清洗机，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师人体自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生，以及制程反应产生物的结果，尤其是制程反应产生物一项，更成为制程污染主要来源。
苏州晶淼半导体(图)_SC-1清洗机_清洗由苏州晶淼半导体设备有限公司提供。苏州晶淼半导体设备有限公司（www.jmbdt.com）是专业从事“半导体清洗机 , 半导体清洗设备,半导体湿法设备”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供优质的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：王经理。