保护膜的残胶的几种表现现象和形成机理
【CPP磨砂保护膜】保护膜主要就是由基材和胶构成的，因此保护膜产品上留有残胶也是经常会发生的，而且表现出来的状况也有不同种。下面我们就来分析一下保护膜残胶的表象的几种状况及其机理。
在生产过程中，由于各方面因素的影响，浙江光学保护膜，保护膜的残胶表象主要包括表面和基材上都有压敏胶；表面上比较多，上海光学保护膜，涂胶面可见基材；表面上有压敏胶残留，但涂胶面光泽良好。【防静电PET保护膜】
以这些情况来说，残胶形成的机理主要有几下几种：
保护膜剥离强度发生改变，保护膜使用一段时间之后要揭下来，但是在这段时间之内保护膜的剥离强度会随着时间的增加而增加。
当剥离强度上升到跨越内聚强度或粘基力时，就会有内聚损坏或粘基损坏现象出现，光学保护膜，也就是残胶的形成。
opp保护膜残胶问题：在使用OPP保护膜后，揭开被保护的物品表面保护膜后，在被保护表面上发现残留的压敏胶，并且无法轻易清除，不得不说这是让保护膜生产和使用厂家最棘手的残胶问题，它不仅破坏了物品的美观，光学保护膜供应，也造成被保护材料的污染，那么表面保护膜为什么会出现残胶呢？
残胶出现通常有三种情况，其一、内聚破坏：被保护表面和基材上均有压敏胶，且保护膜涂胶面失去光泽；其二、粘基破坏：被保护表面有较多胶皮残留，保护膜涂胶面可见基材；其三、迁移残留：被保护表面上有少量压敏胶残留，保护膜涂胶面光泽保持良好。
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