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通用超声波清洗机 超声波清洗机的结构通常有超声电源和清洗器合为一体或分隔隔离分散结构两种形式,清洗设备,通常小功率(200W以下)清洗机用一体式结构,TMAH清洗设备,而大功率清洗机采用分体式结构。超声波清洗机分体式结构由三个主要部分...


品牌 苏州晶淼半导体
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通用超声波清洗机 超声波清洗机的结构通常有超声电源和清洗器合为一体或分隔隔离分散结构两种形式,清洗设备,通常小功率(200W以下)清洗机用一体式结构,TMAH清洗设备,而大功率清洗机采用分体式结构。

超声波清洗机分体式结构由三个主要部分构成 (1)清洗缸; (2)超声波制作生器; (3)超声波换能器;

超声波清洗设施通常可分为通用和专用两种机型。

楷模的软磁器件超声波清洗设施介绍:被清洗物件从进料口可传动的不锈钢专用网带送人超声波清洗槽清洗,再经喷淋、烘干等工序后出料,实现被清洗物件可直接包装入库。


研究所及其他原子能工业:

需要清洗的产品:控制杆、计数管、泵、铅管类、研究所用的容器、玻璃螺管、玻璃管、分析试料、目镜

污染源:放射性粒子、灰尘、沾附污垢、砂砾、硅油、润滑油

使用清洗剂:碱性洗涤剂、中性洗涤剂;纯水;有机性洗涤剂



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