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张家港晋宇达电子科技有限公司

     光刻机中工作台上设置有一个特定的检测系统(1NSITU),在检测系统上设置了几组基准标记(FiducialMark),每台设备中各基准标记相对于曝光轴之间的距离是一组设备常数,在设备出厂前作为机器常数存放在相应的软件文件中。但由于硬件安装、环境变化等多方面原因会造成实际位置和设备常数之间有一个偏差值,即所谓的基准补偿值(BaselineOffset),通过标准片在不同设备上曝光的位置可以求出隔栅误差的各种差异,进而根据匹配要求,适当加入-定量的基准补偿值进而达到最.佳的隔栅误差匹配。



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传统光刻机的演变和所面临的挑战

      光刻机是诸多现代技术高度集成的产物, 这些技术是:物理学,光学,化学,材料科学,精密机械,精密控制,工程学等等。在过往的20几年中,直手臂生产,光刻机作为半导体制造业的重要设备,经历了很多次革命。这些变革是伴随着微处理器和DRAM特征尺寸的不断缩减发生的演变。 由于光刻的分辨率与曝光波长、物镜光阑孔径的关系为:分辨率=K1λ/NA所以光刻机的革命主要发生在这样几个方面[2-8]:大NA非球面镜光学系统,苏州直手臂,短波长光源,分辨率增强技术(降低K1因子),同步扫描工件台等。


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