主要用途
1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，三氟化氮阀门，而且对表面无污染。氢与NF3反应，泰州三氟化氮，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有性，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料
1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，高纯三氟化氮，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有性，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料
基本信息
中文名称:三氟化氮
英文名称:Nitrogen trifluoride
中文别名:氟化氮;
英文别名:232-007-1; trifluoroamine
CAS号:7783-54-2
分子式:F3N
分子量:71.0019
中文名称:三氟化氮
英文名称:Nitrogen trifluoride
中文别名:氟化氮;
英文别名:232-007-1; trifluoroamine
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分子量:71.0019
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