通用超声波清洗机 超声波清洗机的结构通常有超声电源和清洗器合为一体或分隔隔离分散结构两种形式，半导体清洗设备公司，通常小功率(200W以下)清洗机用一体式结构，而大功率清洗机采用分体式结构。
超声波清洗机分体式结构由三个主要部分构成 (1)清洗缸； (2)超声波制作生器； (3)超声波换能器；
超声波清洗设施通常可分为通用和专用两种机型。
楷模的软磁器件超声波清洗设施介绍：被清洗物件从进料口可传动的不锈钢专用网带送人超声波清洗槽清洗，半导体清洗设备质量，再经喷淋、烘干等工序后出料，实现被清洗物件可直接包装入库。
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