主要用途
1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，三氟化氮阀门，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，三氟化氮出口，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有性，三氟化氮，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料
1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，太仓三氟化氮，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有性，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料
三氟化氮包装
NF3气体采用钢质无缝气瓶盛装，钢瓶容积：47L、43.3L、40L、8L；钢瓶型号：DOT-3AA， GB 5099；阀门：CGA 330、CGA 640；钢瓶压力：9.0~13.0MPa；气体质量：22kg、20kg、3.4kg；危规号：23016，UN编号：2451 ； 包装分类：Ⅱ、包装标志：6。上述包装方式可根据用户需要定制更改。
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